法規名稱: 地熱能探勘與開發許可及管理辦法
時間: 中華民國113年5月13日

條文關聯

開發場址規劃之井體正投影至地表之邊界,與下列各款所定邊界最短直線
距離在五百公尺以內,申請人並應提出對以下案場影響分析、減緩措施或
相關說明資料供主管機關審查:
一、已供地熱能發電設備使用之井體正投影至地表之邊界。
二、依本條例核准地熱能探勘許可或開發許可之井體正投影至地表之邊界
    。
三、依溫泉法及相關法令核准之開發許可或經營許可之井體正投影至地表
    之邊界。
開發申請人如與前項第一款至第三款規定之權利人為同一人,無須檢附前
項資料。
〔立法理由〕
一、為避免案場間資源相互影響,爰於第一項明定地熱能開發申請案規劃
    之井體正投影至地表之邊界與其他井體正投影至地表之邊界,如在五
    百公尺以內者,申請人應另行檢附對該利害關係人可能造成之影響分
    析、減緩措施或相關說明資料。
二、有關五百公尺訂定標準,經查國際上尚無相同立法例,爰參考日本實
    務作法定之,後續將依實際執行情形滾動檢討。
三、另考量本條規範目的,係為避免申請案與既有之案場相互影響,惟開
    發申請人與已取得地熱能發電設備之設備登記之人、已依本辦法取得
    地熱能探勘或地熱能開發許可之人或已依溫泉法、溫泉開發許可辦法
    及溫泉取供事業申請經營許可辦法取得開發許可或經營許可之人為同
    一人之情形,則不在此限,爰訂定第二項規定。
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