依前條規定收集之廢氣，於污染防制設備之廢氣導入處或排放管道排放口
應設置流量計及濃度監測器，其設置規定如下：
一、適用本標準之半導體製造業均應設置流量計。
二、揮發性有機物原（物）料年用量大於二十五噸或工廠總排放量大於每
    小時零點六公斤者，屬既存製程其揮發性有機物排放大於十四 ppm或
    屬新設製程其揮發性有機物排放大於十 ppm之排放管道，應設置揮發
    性有機物濃度監測器證明符合本標準排放削減率。既存製程與新設製
    程合併設置排放管道者，以新設製程之設置規定認定之。
三、流量計及濃度監測器之有效每季監測率應大於八十％，每年至少以標
    準檢測方法比測一次，比測時間每次至少二小時，所設置之流量計及
    濃度監測器所得之結果應以上次比測結果修正之。
未能依前項規定設置流量計及濃度監測器之排放管道，公私場所得提出其
他可證明其排放污染物符合前條排放標準規定之替代方案，報請直轄市、
縣（市）主管機關同意後，不在此限。

一、第一項序文配合前條第一項規定，並酌作文字修正。
二、第一項第一款明定應設置流量計之對象，其應設置位置併入序文明敘
    。
三、第一項第二款係依據產業現況調查結果配合第二條第十一款明定原（
    物）料揮發性有機物用量係實際揮發性有機物成分含量，爰修正應設
    置相關排放監測器者，以揮發性有機物原（物）料年用量二十五公噸
    以上為門檻，同時整併第三款工廠總排放量大於每小時零點六公斤（
     0.6kg／hr）者，適用相同規範。另考量應以排放濃度高且易致污染
    之虞者作為應設置相關排放監測器之對象，俾善用排放監測管理資源
    ，爰明定揮發性有機物既存製程排放濃度大於十四 ppm或新設製程排
    放濃度大於十 ppm而擇用排放削減率作為排放標準者應依規定設置，
    落實空氣污染排放精準管理。
四、配合第一項第二款及第三款整併修正，第一項第四款遞移至第三款。
五、考量前條增訂既存及新設製程排放標準，並配合前項針對排放濃度高
    且易致污染之虞者明定其為應設置相關排放監測器之對象，爰公私場
    所尚有確認應否安裝監測器設置安裝之需求，並授權直轄市、縣（市
    ）主管機關可針對無法依規定之特殊情形，經審核公私場所檢具之替
    代方案後，准予免設置，爰酌修第二項規定。